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    六六,k院109与沪海光仪器厂联协功研制一台光刻机、65型接触式光刻机。

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    八二,109厂、冰城量具刃具厂阿城继电器厂共研制功kha75-1型半接近式光刻机,在指标上已经完全标本的p500-f型。

    八一,k院半导体研舊研制功jk-1半接近式光刻机。

在尼康公司的打压,ca的高端市场份额不断减少,在八五、八六损失一亿元,不不裁员七;八八,通信号公司七千六百万元收购了陷入财务困境的ca,了与尼康竞争,satch(半导体制造技术战略联盟)资助ca功krf光刻机,实了1μ制程工艺,尼康光刻机的制程工艺提升到的高端市场份额有銫。

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